在現代科研尤其是在半導體制造及其他精密技術領域，電子特氣系統是支撐實驗室高效實驗室高效運作的核心要素。一個高效、安全、可靠的氣路系統是推動科研活動順利進行、保障科研人員安全，促進科研成功產出的重要基礎。

在泛半導體行業的核心地帶，高純工藝氣體系統如同血液一般為芯片制造、光電顯示等高科技產業提供著源源不斷的“營養”。 而作為專注特氣解決方案十四年的系統提供商——蓋斯帕克，則以其卓越的科技實力和專業的服務經驗，在此領域中綻放異彩。

在科學探索的前沿陣地——實驗室中，特氣系統工程的構建猶如精密的生命線，直接影響著科研工作的順利開展與實驗人員的安全。

半導體CVD工藝是一種重要的半導體制造工藝，CVD是化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition）的縮寫。該工藝通過在氣相中化學反應來沉積材料，通常用于在半導體芯片制造過程中沉積薄膜材料，如二氧化硅、多晶硅、氮化硅等。

在半導體、光伏、實驗室、科研等領域中，特氣系統是必不可少的，而特氣系統又是由各種氣體裝置構成。通常所使用的氣瓶氣罐容器所貯存的氣體壓力高達15MPa左右，這種高壓氣體分道充填于管路系統中，遠遠超出了使用壓力范圍，這時候，我們 就需要減壓器。

選購特氣柜應該注意哪些事項 在選購特氣柜設備時，往往會感到無從下手。本文將從特氣柜的基本概念、特點、選購要點等多個方面進行介紹，幫助大家更好地選擇適合自己的特氣柜。 特氣柜（GC）是專為易燃易爆、腐蝕性、毒性等危險性氣體供應而設計的控制系統，按類別可分為全自動、半自動和手動操作。基本功能包括自動吹掃、自動切換以及緊急情況下的自動安全切斷（當設定報警信號被觸發時）。

特氣應用控制系統的主要目的是為產業工藝制程終端用氣點安全提供高純電子特氣，整個系統包含了眾多模塊，涵蓋了從氣源→氣體分流→終端用氣點的整個流向路徑。用戶單位對特氣使用有兩大要求，主要要求之一是保證壓力和純度，特氣控制系統中壓力通過調壓閥來實

閥門的選擇是管道、儀表系統正確設計和維護實踐的重要組成部分。如果沒有針對特定應用選擇正確的閥門，用戶單位可能會面臨不適當或低劣的特氣系統性能，更長的停機時間以及不可避免的安全風險。