前言
近年來，我國在《中華人民共和國環境保護法》、《中華人民共和國大氣污染防治法》等法律法規中，明確指出了生產及含VOCs產品的生產、儲存運輸銷售、使用、消費各環節的污染防治策略和方法。
對半導體行業廢氣處理系統的設計選型，蓋斯帕克嚴格按照國家或地方的大氣污染物治理達標排放標準。
主要來源于芯片或者是線路板生產的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中。
其中薄膜沉積、光刻和刻蝕是集成電路三大核心工藝，反復循環多次，隨著集成電器線寬不斷縮小，直接導致集成電路制造工序越加復雜。據統計，20納米工藝所需工序約為1000道，而10納米和7納米所需工序已超過1400道，隨著工序步驟的大幅增加意味著污染物排放的增加。
由于半導體行業對操作室清潔度要求極高，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排氣量高、排放濃度低，這些廢氣排放主要可以分為四類：酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體。
二.為什么要做廢氣處理？
廢氣處理在半導體制造企業中是一個不可或缺的環保環節。
作為大規模、代表先進制造技術的產業，未經過處理的廢氣排放將會對環境造成的污染、對先進半導體制程造成很大的影響，即AMC（分子污染）問題，AMC控制正成為所有新型半導體制造設備設計要求中所必須的要點之一，所以一定要積極做好廢氣排放的處理和控制工作。
三.解決方案--GP廢氣處理系統
主要處理氣體
（一）易燃易爆類：SiH4、H2、CH4等；
（二）毒性腐蝕性：N2O、NH3、Cl2等；
（三）其他可吸附性有機氣體及溶劑。
廢氣處理系統核心
（一）該系統核心為尾氣中央處理；
（二）尾氣通過專用收集管道進入設備；
（三）尾氣進入設備時通過N2等惰性高純氣體進行有效稀釋后再處理；
（四）可燃氣體在燒結爐同時有百分比CDA助燃；
（五）毒性腐蝕性氣體在水洗塔內噴淋充分結合溶解；
（六）處理后的溶液在堿性池中二次降解，達到可排放標準；
（七）各個模塊方便維護，經濟高效；
（八）Scrubber靈活多樣，可選擇加熱處理、水洗處理、吸附式及多種結合方式。
在半導體制程生產中，這些制程后殘存的氣體從無塵室通過真空管出來后，需經尾氣處理設備（Local Scrubber）通過燃燒或水洗、冷凝、吸附式等方法先行處理，再排入中央廢氣處理系統。
這是因為半導體制造工作區域離中央廢氣處理系統距離較遠，因此這些廢氣在輸送至中央廢氣處理系統前，在冗長的排氣過程中，可能會因為氣體特性導致引發非預期的氣體泄漏，局部聚積或相互反應，造成風管堵塞、管路腐蝕等問題，嚴重者甚至引發火災爆炸、停止生產和危害現場工作人員的工作安全的后果。
五.SCRUBBER設備介紹
產品特性
■ 主柜體全部采用SUS 304和工業級特氟龍材質，環保耐用。
■ 主體閥門管件主要采用SUS 316材質不銹鋼，耐腐蝕性極好。
■ 主體閥門管件全部來自國際一線品牌。
■ 智能溫控系統，用戶根據實際需求調節加熱溫度，可手動啟停水洗部分。
標準配置
■ 主柜體全部全觸摸屏智能化操作控制，兩級加密防止誤操作；
■ 3D動態處理流程實時顯示；
■ 實體箱體帶觀察窗口，動態的看到整個處理流程；
■ 符合國際安全規范的壓力、流量在線監測系統；
■ 可以采用循環水，更加環保節能；
■ 循環水箱PH濃度實時值監測；
■ 加熱爐智能溫控，最高達950℃高溫；
■ 符合維修窗口配置，方便維護和二次擴展；
■ 加具備一個預留擴充點；
■ 緊急切斷功能，事故報警功能等；
蓋斯帕克深耕特氣控制系統13年+，我們有豐富的經驗、雄厚的技術實力為客戶量身定制各種尾氣處理系統，從尾氣處理方案至設備銷售、安裝，為客戶提供一站式解決方案。
