吸附式local scrubber 尾氣處理設備可處理氣體種類包括半導體、液晶以及太陽能等行業中蝕刻制程與化學氣相沉積制程中使用的特氣,主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等
適合于半導體、新材料及高等院校、科研院所、航空航天和微電子等需要對燃爆毒腐氣體處理的企業或實驗室